特許
J-GLOBAL ID：201603011844703204
基板搬送ローラ、薄膜製造装置及び薄膜製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鎌田 耕一
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-520410
特許番号：特許第5895179号
出願日： 2012年04月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 真空中で基板を搬送する、基板搬送ローラであって、
前記基板を支持するための円筒形の外周面を有し、前記基板と同期して回転できる円筒状の第1シェルと、
前記第1シェルの内部に配置され、前記基板と同期して回転することが禁止された内ブロックと、
前記内ブロックを貫通し、かつ支持するシャフトとを有し、
前記第1シェルの内周面と前記内ブロックの外周面との間に隙間部が形成され、
前記隙間部に、前記内ブロックから前記第1シェルの前記内周面に向かってガスを導入し、
前記シャフト又は前記内ブロックが冷却液を流す流路を有し、
前記内ブロックの形状が円柱又は円筒状であり、
前記第1シェルの前記内周面と前記内ブロックの前記外周面との距離で定義される前記隙間部の広さが0.05〜1mmの範囲にある、基板搬送ローラ。
IPC (2件)：
F16C 13/00 ( 200 6.01)
, C23C 14/56 ( 200 6.01)
F16C 13/00 Z
, C23C 14/56 B
, C23C 14/56 D
