特許
J-GLOBAL ID:201603011985920853
蒸着マスク、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク及び有機半導体素子の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
特許業務法人 インテクト国際特許事務所
, 石橋 良規
, 林 剛史
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-244261
公開番号(公開出願番号):特開2016-108578
出願日: 2014年12月02日
公開日(公表日): 2016年06月20日
要約:
【課題】蒸着マスクを用いた製造過程における歩留まりの向上や、品質の向上が可能な蒸着マスク、蒸着マスク準備体、フレーム付き蒸着マスク更には、蒸着マスクを用いた有機半導体素子製造方法の提供。【解決手段】蒸着作製するパターンに対応する開口部25が設けられた樹脂マスク20の一方の面上に、開口部25と重なるスリット15が設けられた金属マスク10が積層されてなる蒸着マスク100において、金属マスクにアライメント光の反射光により検出されるアライメントマーク40を設け、蒸着マスク100を樹脂マスク20側から平面視した場合に、金属マスク10に設けられたアライメントマーク40の外周に位置する樹脂マスク20の他方の面上に反射層50を設け、反射層50の表面におけるアライメント光の反射率が、アライメントマーク40の表面及び樹脂マスク20の表面におけるアライメント光の反射率よりも高くなるよう構成する蒸着マスク100。【選択図】図1
請求項(抜粋):
蒸着作製するパターンに対応する開口部が設けられた樹脂マスクの一方の面上に、前記開口部と重なるスリットが設けられた金属マスクが積層されてなる蒸着マスクであって、
前記金属マスクには、アライメント光の反射光によって検出されるアライメントマークが設けられており、
前記蒸着マスクを前記樹脂マスク側から平面視した場合において、前記金属マスクに設けられた前記アライメントマークの外周に位置する前記樹脂マスクの他方の面上には、反射層が設けられており、
前記反射層の表面における前記アライメント光の反射率は、前記アライメントマークの表面、及び前記樹脂マスクの表面における前記アライメント光の反射率よりも高いことを特徴とする蒸着マスク。
IPC (3件):
C23C 14/04
, H01L 51/50
, H05B 33/10
FI (3件):
C23C14/04 A
, H05B33/14 A
, H05B33/10
Fターム (15件):
3K107AA01
, 3K107BB01
, 3K107CC35
, 3K107CC42
, 3K107CC45
, 3K107FF06
, 3K107GG04
, 3K107GG28
, 3K107GG32
, 3K107GG33
, 3K107GG54
, 4K029BA62
, 4K029CA01
, 4K029HA02
, 4K029HA03
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