特許

J-GLOBAL ID：201603012533665607

皮膜形成方法

発明者： 藤本 憲宏 ,  三輪 貴志 ,  竹下 幸俊 ,  東 康弘 ,  澤田 孝
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社
代理人 (3件)： 特許業務法人酒井国際特許事務所 ,  宮田 英毅 ,  酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-161534
公開番号（公開出願番号）：特開2016-037634
出願日： 2014年08月07日
公開日（公表日）： 2016年03月22日
要約：

【課題】設備導入直後から防食性能を発揮し、かつ構造物の外観が変わることがない材料を形成する。【解決手段】水酸化物イオンと結合して耐食性皮膜を形成する第1の材料の金属イオンを、水酸化物の溶解度積を満足する濃度に溶解させた水溶液を調整し、水溶液に、第1の材料と、第2の材料と、を浸漬し、第1の材料を作用極とし、第2の材料を対極として、第1の材料に印加する電流または電位を制御することにより、電気化学的に第1の材料上に耐食性皮膜を形成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

水酸化物イオンと結合して耐食性皮膜を形成する第1の材料の金属イオンを、水酸化物の溶解度積を満足する濃度に溶解させた水溶液を調製する調製工程と、 前記水溶液に、第1の材料と、第2の材料と、を浸漬する浸漬工程と、 前記第1の材料を作用極とし、前記第2の材料を対極として、前記第1の材料に印加する電流または電位を制御することにより、電気化学的に前記第1の材料上に耐食性皮膜を形成する形成工程と、を含む皮膜形成方法。

IPC (1件)：

C25D 9/08

FI (1件)：

C25D9/08