特許
J-GLOBAL ID:201603012728655150

ノズルの洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人暁合同特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-051805
公開番号(公開出願番号):特開2013-187394
特許番号:特許第5933993号
出願日: 2012年03月08日
公開日(公表日): 2013年09月19日
請求項(抜粋):
【請求項1】 基板に塗布液を塗布するノズルの洗浄装置であって、 前記基板の周りを囲むカップ部と、 前記カップ部の内部において前記ノズルを洗浄する洗浄部と、 前記カップ部の下方において回収液を貯留する貯留部と、 前記貯留部の外周端部を覆う形態で、前記カップ部を挟む両側に一対設けられた一対の霧化部と、 各霧化部の下面に接続され、前記貯留部の外周端部で霧化された回収液を前記霧化部から回収タンクへ送り込む一対の回収配管とを備え、 前記洗浄部は、前記ノズルの洗浄を行う洗浄位置と、前記ノズルの洗浄を行わない待機位置との間を移動可能とされ、前記待機位置は、前記ノズルからの前記塗布液が触れない位置とされているノズルの洗浄装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  B05C 11/10 ( 200 6.01) ,  B05C 11/08 ( 200 6.01)
FI (3件):
H01L 21/30 564 Z ,  B05C 11/10 ,  B05C 11/08
引用特許:
出願人引用 (4件)
  • 塗布装置及び塗布方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2004-115435   出願人:東京エレクトロン株式会社
  • 回転塗布装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-340288   出願人:ソニー株式会社
  • 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2010-181094   出願人:東京エレクトロン株式会社
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審査官引用 (4件)
  • 塗布装置及び塗布方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2004-115435   出願人:東京エレクトロン株式会社
  • 回転塗布装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2000-340288   出願人:ソニー株式会社
  • 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体
    公報種別:公開公報   出願番号:特願2010-181094   出願人:東京エレクトロン株式会社
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