特許

J-GLOBAL ID：201603013085309639

スパッタリング装置およびスパッタリング成膜方法

発明者： 佐々木 雅夫
出願人/特許権者： キヤノンアネルバ株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013001595
公開番号（公開出願番号）：WO2013-183202
出願日： 2013年03月12日
公開日（公表日）： 2013年12月12日
要約：

スパッタリング装置はマグネットを有する3つのターゲットを備えており、マグネット7a,7b,7cのそれぞれは、順方向のストローク端から逆方向に移動させた後に停止させる第1の移動と、第1の移動後の停止位置から逆方向の逆方向のストローク端まで移動させた後に停止させる第2の移動と、逆方向のストローク端から順方向のストローク端まで移動させた後に停止させる第3の移動とを行うように制御される。そして成膜の際、第1の移動の間に基板に成膜される第1の膜と、第2の移動の間に基板に成膜される第2の膜と、第3の移動の間に基板に成膜される第3の膜はそれぞれ異なるターゲット4a,4b,4cによって成膜され、さらに、第1、第2、第3の膜が基板上で重なるように制御される。

請求項（抜粋）：

真空容器と、 前記真空容器内で基板を搬送するための基板搬送部と、 前記基板搬送部によって搬送される前記基板に対して順次に成膜を行うためのターゲットを保持するべく、前記基板の搬送方向に配列された少なくとも3つのターゲット保持部と、 それぞれの前記ターゲット保持部の裏側に配置されたマグネット部と、 前記マグネット部を駆動するマグネット駆動部と、 前記ターゲット保持部に前記ターゲットを保持させ成膜を行う際、それぞれの前記マグネット部を、前記搬送方向のストローク端から前記搬送方向とは逆方向に移動させて第1所定位置に停止させる第1の移動と、前記第1の移動後に前記第1所定位置から前記逆方向に移動させて第2所定位置に停止させる第2の移動と、前記逆方向のストローク端から前記搬送方向に移動させて前記搬送方向のストローク端に停止させる第3の移動とを所定周期で実行するとともに、前記第1、第2、第3の移動のそれぞれにおいて、前記基板が前記マグネット部に対して前記搬送方向に相対的に移動する距離が等しくなるように前記基板搬送部及び前記マグネット駆動部を制御する制御部と、を備えることを特徴とするスパッタリング装置。

IPC (2件)：

C23C 14/35 ,  H01L 21/285

FI (2件)：

C23C14/35 B ,  H01L21/285 S

Fターム (10件)：

4K029BA03 ,  4K029CA05 ,  4K029DC16 ,  4K029DC34 ,  4K029DC40 ,  4K029DC46 ,  4K029KA03 ,  4K029KA09 ,  4M104DD39 ,  4M104HH20