特許
J-GLOBAL ID：201603013102356719
成膜装置の運転方法及び成膜装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-152659
公開番号（公開出願番号）：特開2014-017322
特許番号：特許第5857896号
出願日： 2012年07月06日
公開日（公表日）： 2014年01月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 互いに異なる処理ガスを基板に順番に供給するサイクルを複数回繰り返して反応生成物の層を積層して薄膜を得る成膜装置であって、
真空容器内に配置され、その上に基板を載置して公転させるための回転テーブルと、
前記回転テーブルの回転方向に互いに離れて設けられ、第1の処理ガス及び第2の処理ガスを夫々基板に供給するための第1の処理ガス供給部及び第2の処理ガス供給部と、
成膜処理を行うときの前記回転テーブルの回転方向において、前記第1の処理ガス供給部と第2の処理ガス供給部との間に、各処理ガスを分離するための分離ガスが供給される分離領域と、
前記回転テーブルの回転方向に互いに離れて設けられ、第1の処理ガス及び第2の処理ガスを夫々専ら排気するための第1の真空排気口及び第2の真空排気口と、
前記回転テーブルをクリーニングするためのクリーニングガスを供給するクリーニングガス供給部と、を備えた成膜装置を運転する方法において、
前記第1の真空排気口の排気を止め、第2の真空排気口から真空排気を行いながら、前記クリーニングガス供給部から真空容器内にクリーニングガスを供給するクリーニング工程を含み、
前記第1の処理ガス供給部は、前記回転テーブルの周縁部と中央部との間に亘って伸びるガスノズルと、分離ガスがその上面側を流れるようにこのガスノズルの長さ方向に沿って設けられた整流板と、を含み、
前記分離領域は、成膜処理を行うときの前記回転テーブルの回転方向において、前記第1の処理ガス供給部の下流側と第2の処理ガス供給部の上流側との間、及び前記第2の処理ガス供給部の下流側と第1の処理ガス供給部の上流側との間に夫々設けられた第1の分離領域及び第2の分離領域を備え、
前記第1の真空排気口は、第1の処理ガス供給部よりも第1の分離領域側に設けられ、前記第2の真空排気口は前記第2の処理ガス供給部よりも第2の分離領域側に設けられ、
前記クリーニングガス供給部は、前記回転方向において前記第1の処理ガス供給部よりも上流側でかつ前記第2の真空排気口よりも下流側に設けられたことを特徴とする成膜装置の運転方法。
IPC (2件)：
H01L 21/31 ( 200 6.01)
, C23C 16/44 ( 200 6.01)
H01L 21/31 B
, C23C 16/44 J
