特許
J-GLOBAL ID：201603013518684952
アルキル化シクロデキストリン組成物ならびにその調製方法および使用方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (11件)：
清水 初志
, 春名 雅夫
, 山口 裕孝
, 刑部 俊
, 井上 隆一
, 佐藤 利光
, 新見 浩一
, 小林 智彦
, 大関 雅人
, 五十嵐 義弘
, 川本 和弥
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-085851
公開番号（公開出願番号）：特開2016-166368
出願日： 2016年04月22日
公開日（公表日）： 2016年09月15日
要約：
【課題】低塩化物アルキル化シクロデキストリン組成物、ならびにその調製方法および使用方法の提供。【解決手段】特定の調製工程と精製工程で得られた低塩化物アルキル化シクロデキストリン組成物は、薬学的剤形、薬学的組成物、または他のそのような原料の組み合わせにおいて使用することができ、限定されないが、分析用試薬、食料および化粧品の補助剤および/または添加剤、ならびに環境浄化剤としても有用である。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
アルキル化シクロデキストリンを含むアルキル化シクロデキストリン組成物を調製するための方法であって、以下の工程を含む、方法:
(a) シクロデキストリンとアルキル化剤とを混合することで、アルキル化シクロデキストリン、1つもしくは複数の望ましくない成分、および1つもしくは複数の薬物分解性不純物を含む反応媒質を形成する工程;
(b) 該1つもしくは複数の望ましくない成分を該反応媒質から除去するために、限外濾過、および透析濾過から選択される1回もしくは複数回の分離を行うことで、該アルキル化シクロデキストリンおよび該1つもしくは複数の薬物分解性不純物を含む部分精製溶液を形成する工程; ならびに
(c) 該部分精製溶液を、10μS以下の残留導電率を有するホスフェート非含有活性炭で処理し、該アルキル化シクロデキストリンを生成する工程。
IPC (6件)：
C08B 37/16
, A61K 31/145
, A61K 31/353
, A61K 31/69
, A61K 47/40
, A61P 43/00
C08B37/16
, A61K31/145
, A61K31/353
, A61K31/69
, A61K47/40
, A61P43/00 111
