特許
J-GLOBAL ID:201603013661849822

Ni及びAuを含有する異種金属多核錯体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (7件): 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  木村 健治 ,  関根 宣夫 ,  堂垣 泰雄 ,  出野 知
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-013638
公開番号(公開出願番号):特開2016-138056
出願日: 2015年01月27日
公開日(公表日): 2016年08月04日
要約:
【課題】Niを含有する異種金属多核錯体であって、排ガス浄化用触媒の調製において使用しうる異種金属多核錯体を製造するための方法を提供する。【解決手段】Ni及びAuを含有する異種金属多核錯体の製造方法であって、架橋ヒドロキシル基を含むNi2核錯体とAu(PPh3)[N(SiMe3)2]を反応させる反応工程を含むことを特徴とする方法が提供される。【選択図】図1
請求項(抜粋):
架橋ヒドロキシル基を含むNi2核錯体とAu(PPh3)[N(SiMe3)2]を反応させる反応工程を含むことを特徴とする、Ni及びAuを含有する異種金属多核錯体の製造方法。
IPC (2件):
C07F 19/00 ,  B01J 23/89
FI (2件):
C07F19/00 ,  B01J23/89 A
Fターム (30件):
4G169AA03 ,  4G169AA06 ,  4G169BA02B ,  4G169BA28A ,  4G169BA28B ,  4G169BC33A ,  4G169BC33B ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169BE01A ,  4G169BE01B ,  4G169BE13A ,  4G169BE13B ,  4G169BE27A ,  4G169BE27B ,  4G169BE32A ,  4G169BE32B ,  4G169CA02 ,  4G169CA03 ,  4G169CA09 ,  4G169DA05 ,  4H048AA02 ,  4H048AD15 ,  4H048BB25 ,  4H048VA58 ,  4H048VB10 ,  4H050AA02 ,  4H050AB40 ,  4H050AD15 ,  4H050BB25

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