特許

J-GLOBAL ID：201603013838013940

3座配位子を有するルテニウムカルボニル錯体を脱水素酸化触媒として用いてカルボニル基を有する化合物を製造する方法

発明者： 峠 太一郎 ,  青木 邦衛 ,  奈良 秀樹 ,  栗山 亙
出願人/特許権者： 高砂香料工業株式会社
代理人 (1件)： 佐伯 憲生
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-544041
特許番号：特許第5847838号
出願日： 2012年04月18日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 次の一般式(21) RuXY(CO)(L) (21) (式中、X及びYは同一であっても異なっていてもよくアニオン性配位子を表し、Lは下記の一般式(22)、 (式中、R1、R2、R3、及びR4は、それぞれ同一であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルオキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、複素環基、又は置換アミノ基を表し、これらのR1とR2又はR3とR4は互いに結合し隣接するリン原子と共に環を形成していてもよい。また、これらのアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキルオキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、複素環基、置換アミノ基は置換基を有していてもよい。 Q1及びQ2は同一であっても異なっていてもよく、置換基を有していてもよい二価のアルキレン基、置換基を有していてもよい二価のシクロアルキレン基、又は置換基を有していてもよい二価のアラルキレン基を表す。) で表される3座アミノジホスフィン配位子を表す。) で表されるルテニウムカルボニル錯体を含有してなる脱水素酸化触媒の存在下で、原料化合物を脱水素酸化反応させて、カルボニル基を有する化合物を製造する方法。

IPC (23件)：

C07C 45/29 ( 200 6.01) ,  C07C 47/02 ( 200 6.01) ,  C07C 47/54 ( 200 6.01) ,  C07C 47/232 ( 200 6.01) ,  C07C 49/403 ( 200 6.01) ,  C07C 49/413 ( 200 6.01) ,  C07C 49/78 ( 200 6.01) ,  C07C 49/786 ( 200 6.01) ,  C07C 49/213 ( 200 6.01) ,  C07C 49/04 ( 200 6.01) ,  C07C 67/00 ( 200 6.01) ,  C07C 69/003 ( 200 6.01) ,  C07C 69/78 ( 200 6.01) ,  C07D 453/02 ( 200 6.01) ,  C07D 307/33 ( 200 6.01) ,  C07D 307/87 ( 200 6.01) ,  C07D 201/02 ( 200 6.01) ,  C07D 211/00 ( 200 6.01) ,  C07C 49/603 ( 200 6.01) ,  B01J 31/24 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01) ,  C07F 15/00 ( 200 6.01) ,  C07F 9/50 ( 200 6.01)

FI (23件)：

C07C 45/29 ,  C07C 47/02 ,  C07C 47/54 ,  C07C 47/232 ,  C07C 49/403 A ,  C07C 49/413 ,  C07C 49/78 ,  C07C 49/786 ,  C07C 49/213 ,  C07C 49/04 A ,  C07C 67/00 ,  C07C 69/003 B ,  C07C 69/78 ,  C07D 453/02 ,  C07D 307/32 F ,  C07D 307/87 ,  C07D 201/02 ,  C07D 211/00 ,  C07C 49/603 ,  B01J 31/24 Z ,  C07B 61/00 300 ,  C07F 15/00 A ,  C07F 9/50