特許
J-GLOBAL ID：201603013921358810
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013050778
公開番号（公開出願番号）：WO2013-172048
出願日： 2013年01月17日
公開日（公表日）： 2013年11月21日
要約：
基板処理装置は、可撓性を有する長尺の基板(S)を、回転可能な転動体(30)の円周面の一部で支持した状態で、長尺の方向に搬送すると共に、回転可能な回転マスクの周面に形成されたパターンを、基板の被処理面に繰り返し転写する。回転マスクの外周面の転写に関与する部分と基板の被処理面とが所定の間隔で配置されるように、回転マスクを転動体に対して支持するマスク保持部(MU1〜MU5)と、転動体及び回転マスクの一方の回転力を他方の回転力として磁力で伝達する磁気歯車伝達系(GD)と、を備える。
請求項（抜粋）：
可撓性を有する長尺の基板を、回転可能な転動体の円周面の一部で支持した状態で、前記長尺の方向に搬送すると共に、回転可能な回転マスクの周面に形成されたパターンを、前記基板の被処理面に繰り返し転写する基板処理装置であって、
前記回転マスクの外周面の転写に関与する部分と前記基板の被処理面とが所定の間隔で配置されるように、前記回転マスクを前記転動体に対して支持するマスク保持部と、
前記転動体及び前記回転マスクの一方の回転力を他方の回転力として磁力で伝達する磁気歯車伝達系と、
を備える基板処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (14件)：
2H097AA16
, 2H097AB10
, 2H097BA10
, 2H097CA12
, 2H097DB07
, 2H097DB11
, 2H097LA12
, 5F131AA13
, 5F131AA32
, 5F131BA13
, 5F131CA70
, 5F131DA20
, 5F131DC30
, 5F131EA10
