特許

J-GLOBAL ID：201603014074683365

磁気記録媒体に適した磁性膜及びその製造方法

発明者： 高見 英生 ,  佐藤 敦 ,  矢作 政隆
出願人/特許権者： JX金属株式会社
代理人 (2件)： 小越 勇 ,  小越 一輝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-041146
公開番号（公開出願番号）：特開2016-194147
出願日： 2016年03月03日
公開日（公表日）： 2016年11月17日
要約：

【課題】スパッタリングで形成した磁性薄膜であって、L10規則構造を発現するための熱処理温度を低下させる方法の提供。【解決手段】Fe及びPtを含む磁性金属と非磁性材料とからなる膜であって、さらにMgを含有し、原子数比で(Fe1-αPtα)1-βMgβ(α、βは、0.35≦α≦0.55、0.01≦β≦0.2を満たす数)で表される組成を有する磁性膜。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

Fe及びPtを含む磁性金属と非磁性材料とからなる磁性膜であって、さらにMgを含有し、原子数比で(Fe1-αPtα)1-βMgβ(α、βは、0.35≦α≦0.55、0.01≦β≦0.2を満たす数)で表される組成を有することを特徴とする磁性膜。

IPC (9件)：

C23C 14/14 ,  C23C 14/58 ,  C23C 14/06 ,  G11B 5/64 ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/851 ,  H01F 10/14 ,  H01F 41/18 ,  C22C 5/04

FI (10件)：

C23C14/14 F ,  C23C14/58 D ,  C23C14/06 T ,  C23C14/06 L ,  G11B5/64 ,  G11B5/65 ,  G11B5/851 ,  H01F10/14 ,  H01F41/18 ,  C22C5/04

Fターム (36件)：

4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BA22 ,  4K029BA26 ,  4K029BA43 ,  4K029BA55 ,  4K029BA58 ,  4K029BB07 ,  4K029BC06 ,  4K029BD11 ,  4K029CA05 ,  4K029DC04 ,  4K029DC05 ,  4K029DC09 ,  4K029DC16 ,  4K029DC39 ,  4K029GA01 ,  5D006BB01 ,  5D006BB06 ,  5D006BB07 ,  5D006DA03 ,  5D006DA08 ,  5D006EA03 ,  5D006FA09 ,  5D112AA05 ,  5D112AA24 ,  5D112FA04 ,  5D112FB02 ,  5D112FB14 ,  5D112GB01 ,  5E049AA01 ,  5E049AB09 ,  5E049BA08 ,  5E049DB04 ,  5E049EB06 ,  5E049GC01

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 磁気記録媒体、磁気記憶装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2013-129883   出願人：昭和電工株式会社
• スパッタリングターゲット、スパッタリングターゲットの製造方法、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録再生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-272231   出願人：昭和電工株式会社
• 磁気記録媒体膜形成用スパッタリングターゲットおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-012629   出願人：三菱マテリアル株式会社
• 熱アシスト磁気記録媒体及び磁気記憶装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2011-087890   出願人：昭和電工株式会社