特許

J-GLOBAL ID：201603014294932560

レーザ加工装置

発明者： 佐藤 雅夫
出願人/特許権者： 株式会社キーエンス
代理人 (2件)： 福島 祥人 ,  澤村 英幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-156572
公開番号（公開出願番号）：特開2016-032831
出願日： 2014年07月31日
公開日（公表日）： 2016年03月10日
要約：

【課題】高出力でのレーザ加工を可能にするとともに励起光の光源の短寿命化が抑制されたレーザ加工装置を提供する。【解決手段】レーザ励起部40の複数のシングルエミッタLD41の単一のエミッタから出射される光が光ファイバケーブルOCの一端面E1に集光されることにより、高出力の励起光が光ファイバケーブルOCを通して本体部1からマーキングヘッド部2に伝達される。マーキングヘッド部2においては、光ファイバケーブルOCの他端面から出射される励起光が、第1および第2の励起光に分離される。第1の励起光により第1のレーザ媒質が励起され、レーザ光が発生される。発生されたレーザ光が第2のレーザ媒質に入射する。第2のレーザ媒質には、第2の励起光が入射する。それにより、第2のレーザ媒質が励起され、第1のレーザ媒質から第2のレーザ媒質に入射したレーザ光が増幅される。増幅されたレーザ光がワークに照射される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

対象物にレーザ光を照射することにより対象物を加工するレーザ加工装置であって、 励起光を出射する励起光生成部と、 一端部および他端部を有し、前記励起光生成部により出射された励起光を前記一端部から前記他端部へ伝達する励起光伝達媒体と、 前記励起光伝達媒体により伝達された励起光に基づいてレーザ光を出射するレーザ光出力部と、 前記レーザ光出力部から出射されたレーザ光を対象物の表面上で走査するレーザ光走査部とを備え、 前記励起光生成部は、 励起光を出射する単一の発光点をそれぞれ有する複数の光源と、 前記複数の光源の発光点からそれぞれ出射される励起光を前記励起光伝達媒体の前記一端部に集光する集光光学機構とを含み、 前記レーザ光出力部は、 前記励起光伝達媒体の前記他端部から出射される励起光を第1の励起光および第2の励起光に分離する励起光分離部と、 前記励起光分離部により分離された第1の励起光により励起される第1のレーザ媒質を有し、前記第1のレーザ媒質において発生される誘導放出光をレーザ光として出射する発振器と、 前記励起光分離部により分離された第2の励起光により励起される第2のレーザ媒質を有し、前記第2のレーザ媒質において前記発振器により出射されたレーザ光を増幅する増幅器とを含む、レーザ加工装置。

IPC (4件)：

B23K 26/06 ,  B23K 26/082 ,  B23K 26/00 ,  H01S 3/00

FI (4件)：

B23K26/06 ,  B23K26/082 ,  B23K26/00 N ,  H01S3/00 B

Fターム (30件)：

4E168AA00 ,  4E168AD03 ,  4E168AD11 ,  4E168CA06 ,  4E168CA07 ,  4E168CB04 ,  4E168CB12 ,  4E168CB22 ,  4E168DA02 ,  4E168DA24 ,  4E168DA43 ,  4E168DA60 ,  4E168EA02 ,  4E168EA05 ,  4E168EA11 ,  4E168EA15 ,  4E168EA17 ,  4E168JA01 ,  5F172AE03 ,  5F172AE09 ,  5F172AF02 ,  5F172CC09 ,  5F172DD02 ,  5F172EE15 ,  5F172EE16 ,  5F172NN13 ,  5F172NP03 ,  5F172NQ25 ,  5F172NR06 ,  5F172ZZ01