触媒を除去して液相媒体に戻す方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (6件)：辻居幸一 , 熊倉禎男 , 箱田篤 , 浅井賢治 , 山崎一夫 , 市川さつき
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-544460
公開番号（公開出願番号）：特表2016-501717
出願日： 2013年11月28日
公開日（公表日）： 2016年01月21日
要約：

液相からの成分の選択的除去及びその後に該成分を液相に戻す方法を開示する。式(I)[SUP]-[[L]-[G]]a(式中、Lは連結基であり、Gは、Cl、Br、I、スルホナート、例えばトリフラート等、ジアゾ基、ニトリル、エステル及びアルコキシ基から選択される脱離基を有するアリール基であり、置換基Qは、H、NR2、OR、CO2R、F、Cl、NO2、CNから選択され、SUPは担体であり、この担体に複数の基-[L]-[G]が結合している)の新規化合物を液相と接触させて、成分を化合物Iに結合させることによって捕獲成分を形成し、この捕獲成分を液相から分離し、液相に戻すことができる。化合物Iは、均一触媒と結合してそれを反応媒体から除去し、後の段階で選択的に触媒を反応媒体に戻すのに特に有用である。本化合物は、特にクロスカップリング反応、例えば鈴木反応に有用である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

液相媒体から成分を選択的に除去し、その後に前記成分を液相媒体に戻す方法であって、下記式Iの化合物を前記液相媒体と接触させて、前記成分を化合物Iに結合させることによって結合成分を形成する工程、この結合成分及び前記媒体を分離する工程、その後に前記結合成分を前記媒体に戻す工程及び前記化合物Iから前記成分を放出するように前記結合成分を処理する工程を含んでなり、前記化合物Iは下記式: [SUP]-[[L]-[G]]a (I) (式中: Lは、GをSUP-に連結する基であり、下記: i) -(CH2)h[S(O)d]m(CHD)nZm((CH2)nY(CH2)n)m(式中、Dは、H、CN、OH、-C(O)OR、-C(O)NR2-C(O)OG、-CONRGから選択され、Yは、O、NR、S(O)d、CO、CO2、-NRCOZm-、-ZmCONR-、-C=N-、ヘテロ環式環から選択され、Zは独立にO、S、NRである);及び ii) -(CH2)hP(=O)(OR)O-(CH2)h から選択され、ここで、dは独立に0〜2であり、hは0〜15であり、mは独立に0又は1であり、nは独立に0〜4であり、Rは独立にH又はC1-12アルキル基及びフェニル基から選択され;或いはLは存在せず、Gは直接SUPに連結し; Gは、アルキル基、アリール基、ヘテロ環式基及びヘテロアリール基から選択され、ここで、基Gは、 a. 脱離基LG;及び b. H、NR2、N+R3、-N(R)CO2H、-N=CR2、OR、-O+(R)SiR3、CO2R、CO2-、-CONR2-NRC(O)R、F、Cl、NO2、CNから選択される置換基Q及び基Qと基Lの一部との間、例えば-O-C(O)-(エーテル酸素はGに結合し、カルボニル基は基Lの一部である)に形成される環を有し; SUPは担体であり、この担体に複数n個の基-[L]-[G]が結合している) の化合物である、前記方法。

IPC (6件)：

B01J 38/00 , C07F 7/12 , C07F 7/10 , C08K 9/04 , C01B 33/18 , B01J 31/22

FI (6件)：

B01J38/00 301Q , C07F7/12 Y , C07F7/10 X , C08K9/04 , C01B33/18 E , B01J31/22 Z

Fターム (91件)：

4G072AA25 , 4G072BB05 , 4G072DD02 , 4G072DD03 , 4G072GG02 , 4G072HH30 , 4G072JJ28 , 4G072JJ30 , 4G072JJ42 , 4G072JJ47 , 4G072KK15 , 4G072KK17 , 4G072LL09 , 4G072MM22 , 4G072MM23 , 4G072MM31 , 4G072MM33 , 4G072QQ06 , 4G072UU30 , 4G169AA10 , 4G169BA01C , 4G169BA02C , 4G169BA22C , 4G169BA27A , 4G169BA27B , 4G169BB08A , 4G169BB08B , 4G169BB16C , 4G169BC03C , 4G169BC31A , 4G169BC66A , 4G169BC66B , 4G169BC68A , 4G169BC70A , 4G169BC71A , 4G169BC72A , 4G169BC72B , 4G169BC74A , 4G169BC75A , 4G169BD12A , 4G169BD12B , 4G169BD12C , 4G169BE01B , 4G169BE01C , 4G169BE02C , 4G169BE03A , 4G169BE06C , 4G169BE07C , 4G169BE08A , 4G169BE08C , 4G169BE09C , 4G169BE13C , 4G169BE14C , 4G169BE21C , 4G169BE22C , 4G169BE25C , 4G169BE26A , 4G169BE26B , 4G169BE26C , 4G169BE27A , 4G169BE32C , 4G169BE33A , 4G169BE33B , 4G169BE33C , 4G169BE36A , 4G169BE36B , 4G169BE37C , 4G169BE38C , 4H039CA41 , 4H039CD20 , 4H039CD90 , 4H049VN01 , 4H049VP10 , 4H049VP11 , 4H049VQ13 , 4H049VQ30 , 4H049VQ35 , 4H049VQ37 , 4H049VQ49 , 4H049VQ54 , 4H049VQ59 , 4H049VT17 , 4H049VU31 , 4H049VW01 , 4H049VW02 , 4J002DE146 , 4J002DJ016 , 4J002FB086 , 4J002FD206 , 4J002GD00 , 4J002GT00

引用特許：

出願人引用 (3件)

溶存パラジウムの除去方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-192469 出願人：東ソー株式会社
特開平4-290555
置換オルガノポリシロキサン及びその使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2008-553688 出願人：フォスフォニックスリミテッド

審査官引用 (3件)

溶存パラジウムの除去方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2009-192469 出願人：東ソー株式会社
特開平4-290555
置換オルガノポリシロキサン及びその使用
公報種別：公表公報出願番号：特願2008-553688 出願人：フォスフォニックスリミテッド

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