フォトレジスト用樹脂組成物の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：棚井澄雄 , 志賀正武
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-501019
特許番号：特許第6003881号
出願日： 2012年02月20日
請求項（抜粋）：

【請求項1】メタクレゾールと、パラクレゾールと、3,5-キシレノール及び2,3,5-トリメチルフェノールから選ばれる一種又は二種と、アルデヒド類と、を酸触媒の存在下、ヘキサン、ベンゼン及びキシレンからなる群より選択される1種以上を含む反応溶媒中で、110-220°Cの温度下で反応させてハイオルソノボラック型フェノール樹脂を得る工程(i)、並びに、前記工程(i)で得たハイオルソノボラック型フェノール樹脂と、ナフトキノンジアジド誘導体と、溶媒と、を混合する工程(ii) を有することを特徴とするフォトレジスト用樹脂組成物の製造方法。

IPC (2件)：