特許
J-GLOBAL ID:201603014828660740

チップ間隔維持装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 松本 昂 ,  岡本 知広
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-135532
公開番号(公開出願番号):特開2016-015360
出願日: 2014年07月01日
公開日(公表日): 2016年01月28日
要約:
【課題】チップの間隔を拡げた状態に維持する際のチップの汚染を抑制可能なチップ間隔維持装置を提供する。【解決手段】エキスパンドシート(23)に貼着された被加工物(11)を分割して形成した複数のチップ(27)の間隔を拡張した状態に維持するチップ間隔維持装置(2)であって、被加工物の外周縁と環状フレーム(25)の内周との間の拡張されたエキスパンドシートに向けて遠赤外線(A)を照射し、エキスパンドシートを収縮させる遠赤外線照射手段(42)と、遠赤外線照射手段に隣接して配設され、遠赤外線照射手段がエキスパンドシートに向けて遠赤外線を照射する際に被加工物に対して気体(B)を噴射する噴射口(44a)を有し、被加工物の上方にエアー層を形成するエアー層形成手段(44)と、を備える構成とした。【選択図】図2
請求項(抜粋):
エキスパンドシートに貼着された被加工物を分割して形成した複数のチップの間隔を拡張した状態に維持するチップ間隔維持装置であって、 被加工物を支持する支持面を有し、エキスパンドシートを介して複数のチップに分割された被加工物を吸引保持可能なテーブルと、 該エキスパンドシートが装着された環状フレームを該テーブルの外周部に固定する固定手段と、 該エキスパンドシートを拡張し、複数の該チップ間に間隔を形成する拡張手段と、 該テーブルの該支持面の上方に配設され、被加工物の外周縁と該環状フレームの内周との間の拡張された該エキスパンドシートに向けて遠赤外線を照射し、該エキスパンドシートを収縮させる遠赤外線照射手段と、 該遠赤外線照射手段を、該エキスパンドシートに対して遠赤外線を照射する照射位置と退避位置とに位置付ける位置付け手段と、 該遠赤外線照射手段に隣接して配設され、該遠赤外線照射手段が該エキスパンドシートに向けて遠赤外線を照射する際に被加工物に対して気体を噴射する噴射口を有し、被加工物の上方にエアー層を形成するエアー層形成手段と、を備えたことを特徴とするチップ間隔維持装置。
IPC (2件):
H01L 21/301 ,  H01L 21/683
FI (2件):
H01L21/78 W ,  H01L21/68 N
Fターム (35件):
5F063AA15 ,  5F063AA31 ,  5F063CB06 ,  5F063CB07 ,  5F063CB10 ,  5F063CB29 ,  5F063DD26 ,  5F063DD27 ,  5F063DD68 ,  5F063DD73 ,  5F063DD93 ,  5F063DF12 ,  5F063DG21 ,  5F063EE21 ,  5F063EE42 ,  5F063EE48 ,  5F063FF04 ,  5F063FF13 ,  5F131AA02 ,  5F131BA53 ,  5F131CA12 ,  5F131DA13 ,  5F131DA33 ,  5F131DA42 ,  5F131EA07 ,  5F131EA23 ,  5F131EB03 ,  5F131EC33 ,  5F131EC44 ,  5F131EC73 ,  5F131EC75 ,  5F131JA14 ,  5F131JA16 ,  5F131JA24 ,  5F131JA27
引用特許:
審査官引用 (5件)
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