特許
J-GLOBAL ID:201603014938873382

光干渉断層画像生成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 特許業務法人磯野国際特許商標事務所 ,  磯野 道造 ,  多田 悦夫
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-055145
公開番号(公開出願番号):特開2013-188269
特許番号:特許第5993168号
出願日: 2012年03月12日
公開日(公表日): 2013年09月26日
請求項(抜粋):
【請求項1】 光源から照射されたレーザ光を、被写体に照射する計測光と参照ミラーに照射する参照光とに分配する光学ユニット部を有し、 前記被写体から反射して戻ってきた散乱光と前記参照ミラーで反射した反射光とを合成させた干渉光を解析して光干渉断層画像を生成する光干渉断層画像生成装置であって、 前記計測光を前記被写体に照射して前記反射して戻ってきた散乱光を回収するプローブと、 このプローブ内に導入されたレーザ光の照射方向を変化させる走査手段と、 この走査手段からの前記計測光を前記被写体に照射して前記散乱光を回収する開口部と前記レーザ光を反射するミラーを有し、前記プローブに着脱自在に設けられるノズルと、 前記光学ユニット部を積載する支持スタンドと、 前記ノズルを加温する加温手段と、を有し、 前記加温手段は、前記プローブに装着する前の前記ノズルを、前記プローブに装着して使用する前に加温する加温ボックスを前記支持スタンドに備えたことを特徴とする光干渉断層画像生成装置。
IPC (2件):
A61B 1/24 ( 200 6.01) ,  A61B 1/00 ( 200 6.01)
FI (2件):
A61B 1/24 ,  A61B 1/00 300 D
引用特許:
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る