パターン付ロールの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：石原進介 , 石原詔二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-516772
特許番号：特許第5992515号
出願日： 2013年05月16日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基材を準備する工程と、該基材の表面に感光材を塗布し、露光・現像せしめてレジストパターンを形成する工程と、該基材及びレジストパターンの表面に第一DLC被覆膜を形成する工程と、該レジストパターン上に形成された第一DLC被覆膜を該レジストパターンごと剥離せしめて基材の表面にDLCパターンを形成する工程と、前記基材及びDLCパターンの表面に第二DLC被覆膜を形成する工程と、を含むことを特徴とするパターン付ロールの製造方法。

IPC (5件)：

B41C 1/18 ( 200 6.01) , B41N 1/22 ( 200 6.01) , G03F 7/00 ( 200 6.01) , G03F 7/09 ( 200 6.01) , G03F 7/40 ( 200 6.01)

FI (5件)：

B41C 1/18 , B41N 1/22 , G03F 7/00 505 , G03F 7/09 501 , G03F 7/40 511

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開平2-228458
特開昭63-303796
特開昭64-079356

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