特許
J-GLOBAL ID:201603015097932105
インプリント用光硬化性組成物および微細パターンを表面に有する成形体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-117491
公開番号(公開出願番号):特開2013-245229
特許番号:特許第5978761号
出願日: 2012年05月23日
公開日(公表日): 2013年12月09日
請求項(抜粋):
【請求項1】 下記化合物(A)と、下記化合物(B)と、下記化合物(C)と、光重合開始剤(D)と、下記化合物(E)とを含み、
化合物(A)、化合物(B)、化合物(C)および光重合開始剤(D)の合計100質量%のうち、化合物(A)が1〜50質量%であり、化合物(B)が1〜43質量%であり、化合物(C)が6〜92質量%であり、光重合開始剤(D)が0.5〜17質量%であり、
化合物(A)、化合物(B)、化合物(C)および光重合開始剤(D)の合計100質量部に対して、化合物(E)が1〜43質量部である、インプリント用光硬化性組成物。
化合物(A):フッ素原子を有し、かつ炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物。
化合物(B):水酸基を有するアクリルアミド類(ただし、化合物(A)を除く。)。
化合物(C):炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物(ただし、化合物(A)、化合物(B)およびカルボン酸基を有し、かつ炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物(E)を除く。)。
化合物(E):カルボン酸基を有し、かつ炭素-炭素不飽和二重結合を1つ以上有する化合物(ただし、化合物(A)および化合物(B)を除く。)。
IPC (3件):
C08F 2/48 ( 200 6.01)
, C08F 220/22 ( 200 6.01)
, C08F 220/58 ( 200 6.01)
FI (3件):
C08F 2/48
, C08F 220/22
, C08F 220/58
引用特許: