特許

J-GLOBAL ID：201603015420141465

スラリー、研磨液セット、研磨液、基体の研磨方法及び基体

発明者： 岩野 友洋 ,  南 久貴 ,  阿久津 利明 ,  藤崎 耕司
出願人/特許権者： 日立化成株式会社
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  清水 義憲 ,  古下 智也
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013058784
公開番号（公開出願番号）：WO2013-175857
出願日： 2013年03月26日
公開日（公表日）： 2013年11月28日
要約：

砥粒と添加剤と水とを含有する研磨液であって、砥粒が、4価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を1.0質量%に調整した水分散液において波長400nmの光に対して吸光度1.00以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を1.0質量%に調整した水分散液において波長500nmの光に対して光透過率50%/cm以上を与えるものであり、前記砥粒の含有量を1.0質量%に調整した水分散液のNO3-濃度と、該水分散液を60°Cで72時間保持した後におけるNO3-濃度との差が200ppm以下である、研磨液。

請求項（抜粋）：

砥粒と水とを含有するスラリーであって、 前記砥粒が、4価金属元素の水酸化物を含み、且つ、該砥粒の含有量を1.0質量%に調整した水分散液において波長400nmの光に対して吸光度1.00以上を与えるものであり、且つ、前記砥粒の含有量を1.0質量%に調整した水分散液において波長500nmの光に対して光透過率50%/cm以上を与えるものであり、 前記砥粒の含有量を1.0質量%に調整した水分散液のNO3-濃度と、該水分散液を60°Cで72時間保持した後におけるNO3-濃度との差が200ppm以下である、スラリー。

IPC (4件)：

C09K 3/14 ,  H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C09G 1/02

FI (6件)：

C09K3/14 550C ,  H01L21/304 622D ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550Z ,  C09K3/14 550D ,  C09G1/02

Fターム (25件)：

3C158AA07 ,  3C158CA01 ,  3C158CA05 ,  3C158CB03 ,  3C158CB04 ,  3C158CB10 ,  3C158DA02 ,  3C158DA12 ,  3C158DA17 ,  3C158ED01 ,  3C158ED05 ,  3C158ED11 ,  3C158ED26 ,  5F057AA14 ,  5F057AA29 ,  5F057BA18 ,  5F057BA24 ,  5F057BB37 ,  5F057BC01 ,  5F057CA12 ,  5F057DA03 ,  5F057EA01 ,  5F057EA09 ,  5F057EA28 ,  5F057EA38