特許
J-GLOBAL ID：201603015578773710
光触媒電極およびその製造方法、水素生成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
渡辺 望稔
, 三和 晴子
, 伊東 秀明
, 三橋 史生
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-273663
公開番号（公開出願番号）：特開2014-118594
特許番号：特許第5993736号
出願日： 2012年12月14日
公開日（公表日）： 2014年06月30日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 液相法で製造された第一光触媒粒子と、固相法で製造された第二光触媒粒子とを含む光触媒層形成用組成物を、透明電極層付き基板の透明電極層上に塗布する工程と、
前記光触媒層形成用組成物が塗布された透明電極層付き基板に焼成処理を施す工程とを備え、
前記第一光触媒粒子のピーク粒径が20〜200nmであり、
前記第二光触媒粒子のピーク粒径が前記第一光触媒粒子のピーク粒径より400nm以上大きく、
前記第一光触媒粒子および第二光触媒粒子が、少なくとも2種の金属原子を含む酸化物である、光触媒電極の製造方法。
IPC (5件)：
C25B 11/06 ( 200 6.01)
, B01J 23/58 ( 200 6.01)
, B01J 35/02 ( 200 6.01)
, C23C 26/00 ( 200 6.01)
, C25B 9/00 ( 200 6.01)
C25B 11/06 Z
, B01J 23/58 M
, B01J 35/02 J
, C23C 26/00 C
, C25B 9/00 A
