石炭とコークスからグラフェン量子ドットを生成する方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：小野新次郎 , 小林泰 , 竹内茂雄 , 山本修 , 中村充利
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-512070
公開番号（公開出願番号）：特表2016-525997
出願日： 2014年05月02日
公開日（公表日）： 2016年09月01日
要約：

幾つかの態様において、本開示は、炭素源(例えば、石炭、コークスおよびこれらの組み合わせ)を酸化剤に曝露することによって、この炭素源からグラフェン量子ドットを製造する方法に関する。幾つかの態様において、本開示の方法は、形成したグラフェン量子ドットを酸化剤から分離する工程をさらに含む。幾つかの態様において、本開示の方法は、形成したグラフェン量子ドットを還元する工程をさらに含む。幾つかの態様において、本開示の方法は、グラフェン量子ドットの量子の収率を向上させる工程をさらに含む。さらなる態様において、本開示の方法は、炭素源を選択することによって、形成されるグラフェン量子ドットの直径を制御する工程も含む。幾つかの態様において、形成されるグラフェン量子ドットは、それらの端部に酸素の付加物または非晶質炭素の付加物を含む。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

炭素源を酸化剤に曝露することを含む、炭素源からグラフェン量子ドットを製造する方法であって、炭素源が、石炭、コークスおよびこれらの組み合わせからなる群から選択され、曝露することによってグラフェン量子ドットが形成される、上記方法。

IPC (2件)：

C01B 31/02 , B82Y 40/00

FI (2件)：

C01B31/02 101Z , B82Y40/00

Fターム (24件)：

4G146AA01 , 4G146AB07 , 4G146AC03A , 4G146AC03B , 4G146AC11A , 4G146AC11B , 4G146AC16B , 4G146AC27B , 4G146AC28B , 4G146AC30B , 4G146AD03 , 4G146AD28 , 4G146AD40 , 4G146BA25 , 4G146BA27 , 4G146BB04 , 4G146BB06 , 4G146BB12 , 4G146BB14 , 4G146BC06 , 4G146BC41 , 4G146BC50 , 4G146CA08 , 4G146CA16

引用文献：

審査官引用 (4件)

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