マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及び転写用マスクの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：永田豊 , 大島孝文 , 太田司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-014127
公開番号（公開出願番号）：特開2016-128377
出願日： 2016年01月28日
公開日（公表日）： 2016年07月14日
要約：

【課題】転写パターンの一部とその下の基板の主表面とが一体的にもげる現象の発生を抑制できる低欠陥で高品質のマスクブランク用基板の製造方法、マスクブランク用基板主表面の機械的強度の低下を抑制でき、転写パターンの一部とその下の基板の主表面とが一体的にもげる現象の発生を抑制できる低欠陥で高品質のマスクブランクの製造方法、及び、転写パターンの一部とその下の基板の主表面とが一体的にもげる現象の発生を抑制してパターン欠損の少ない低欠陥で高品質な転写用マスクの製造方法を提供する。【解決手段】マスクブランクは、研磨砥粒を含む研磨液を用いて基板主表面(X1)が研磨されたマスクブランク用基板(X)を準備し、その基板主表面(X1)を触媒基準エッチングして、主表面(X1)の加工変質部を除去した後に、その基板(X)の主表面(X1)上に転写パターン形成用薄膜をスパッタリング法により成膜することにより製造する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

マスクブランク用基板の主表面上に、転写パターン形成用薄膜が形成されたマスクブランクに使用されるマスクブランク用基板の製造方法であって、研磨砥粒を含む研磨液を用いてマスクブランク用基板を研磨する工程と、前記研磨工程の後、前記基板に対して、常態では溶解性を示さない処理流体を前記主表面に接触させ、且つ触媒定盤の加工基準面を前記主表面に接触又は接近させた状態で、前記基板と前記加工基準面を相対運動させることにより、前記主表面を触媒基準エッチングして、前記主表面の加工変質部を除去する触媒基準エッチング工程と、を有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法。

IPC (12件)：

C03C 15/02 , G03F 1/60 , H01L 21/027 , G03F 1/32 , C03C 19/00 , C03C 17/245 , H01L 21/306 , B24B 37/10 , B24B 37/04 , B08B 3/08 , B08B 3/12 , B08B 1/04

FI (13件)：

C03C15/02 , G03F1/60 , H01L21/30 502D , G03F1/32 , C03C19/00 Z , C03C17/245 A , H01L21/306 A , H01L21/306 M , B24B37/04 G , B24B37/04 Z , B08B3/08 Z , B08B3/12 B , B08B1/04

Fターム (65件)：

2H195BA07 , 2H195BB03 , 2H195BB19 , 2H195BB20 , 2H195BB22 , 2H195BB25 , 2H195BB27 , 2H195BC05 , 2H195BC13 , 2H195BC26 , 2H195BD04 , 2H195BD05 , 3B116AA02 , 3B116AB02 , 3B116BA02 , 3B116BA08 , 3B116BA12 , 3B116BB02 , 3B116BB32 , 3B116BB38 , 3B116BB83 , 3B116CC01 , 3B116CC03 , 3B116CC05 , 3B201AA02 , 3B201AB02 , 3B201AB44 , 3B201BA02 , 3B201BA08 , 3B201BB02 , 3B201BB32 , 3B201BB38 , 3B201BB83 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201BB96 , 3B201BB98 , 3B201CC01 , 3B201CC11 , 3B201CC21 , 3C158AA07 , 3C158AA09 , 3C158CA01 , 3C158CA06 , 3C158CB01 , 3C158CB02 , 3C158DA02 , 3C158DA11 , 3C158DA12 , 3C158EA11 , 3C158EA26 , 3C158EB01 , 3C158ED10 , 4G059AA08 , 4G059AC30 , 4G059BB01 , 4G059BB12 , 4G059BB13 , 5F043AA40 , 5F043BB22 , 5F043BB27 , 5F043DD02 , 5F043DD13 , 5F043DD16 , 5F146AA32

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