特許
J-GLOBAL ID：201603016542771610
フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-133446
公開番号（公開出願番号）：特開2016-199467
出願日： 2016年07月05日
公開日（公表日）： 2016年12月01日
要約：
【課題】歪点やガラス転移点等の低温粘性域での特性温度が高く、熱収縮率が小さく、かつ直接通電加熱による熔解において熔解槽熔損の問題の発生を回避できるガラスからなる、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板とその製造方法の提供。【解決手段】質量%でSiO2:52〜78%、Al2O3:3〜25%、B2O3:3〜15%、RO(但し、ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量):3〜25%、Fe203:0.01〜1%、Sb2O3:0〜0.3%を含有し、かつAs2O3は実質的に含有せず、質量比(SiO2+Al2O3)/B2O3は7〜30の範囲であり、かつ質量比(SiO2+Al2O3)/は6以上であるガラスからなり、前記ガラス組成のガラス原料を少なくとも直接通電加熱を用いて熔解する熔解工程と、熔融ガラスを平板状ガラスに成形する成形工程と、平板状ガラスを徐冷する徐冷工程と、を有するガラス基板。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
SiO2 52〜78質量%、
Al2O3 3〜25質量%、
B2O3 3〜15質量%、
RO(但し、ROはMgO、CaO、SrO及びBaOの合量) 3〜25質量%、
Fe2O3 0.01〜1質量%、
Sb2O3 0〜0.3質量%、
を含有し、かつAs2O3は実質的に含有せず、
質量比(SiO2+Al2O3)/B2O3は7〜30の範囲であり、かつ質量比(SiO2+Al2O3)/ROは6以上
であるガラスからなる、
p-Si・TFTフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (9件)
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引用文献：
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