特許
J-GLOBAL ID:201603016606877565
単結晶半導体材料の制御されたドーピングのための液体ドーピングシステムおよび方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
鮫島 睦
, 田村 恭生
, 山尾 憲人
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2015-550113
公開番号(公開出願番号):特表2016-501826
出願日: 2013年12月31日
公開日(公表日): 2016年01月21日
要約:
液体ドーパントを半導体グレード材料またはソーラーグレード材料の融液中に導入するためのドーピングシステムは、ドーパントを保持するためのドーパント貯蔵装置および供給管を含む。ドーパント貯蔵装置は、本体と、本体の断面積より小さい断面積を有する開口部を規定するテーパー状端部と、を含む。供給管は、貯蔵装置の開口部から伸びる第1の端部と、第1の端部から遠位の第2の端部と、供給管の第2の端部に配置された傾斜した先端部と、供給管を通過して固体ドーパントが移動することを妨げるための第1の制限と、供給管の第2の端部近傍に配置された、液体ドーパントの流量を制御するための第2の制限と、を含む。
請求項(抜粋):
液体ドーパントを半導体グレード材料またはソーラーグレード材料の融液中に導入するためのドーピングシステムであって、
本体と、前記本体の断面積より小さい断面積を有する開口部を規定するテーパー状端部と、を含む、ドーパントを保持するためのドーパント貯蔵装置と、
供給管であって、前記貯蔵装置の前記開口部から伸びる第1の端部と、前記第1の端部から遠位の第2の端部と、前記供給管の前記第2の端部に配置された傾斜した先端部と、前記供給管を通過して固体ドーパントが移動することを妨げるための第1の制限と、前記供給管の前記第2の端部近傍に配置された、液体ドーパントの流量を制御するための第2の制限と、を有する供給管と、
を含むドーピングシステム。
IPC (2件):
FI (2件):
C30B15/04
, C30B29/06 502H
Fターム (19件):
4G077AA02
, 4G077BA04
, 4G077CF10
, 4G077EB01
, 4G077EC10
, 4G077ED01
, 4G077EG12
, 4G077EG18
, 4G077EG25
, 4G077EH05
, 4G077HA12
, 4G077PB01
, 4G077PB05
, 4G077PB08
, 4G077PB11
, 4G077PB14
, 4G077PE01
, 4G077PG01
, 4G077PJ01
引用特許:
審査官引用 (1件)
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シリコン単結晶引上装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2010-213136
出願人:コバレントマテリアル株式会社
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