特許

J-GLOBAL ID：201603016777100682

観察撮影装置

発明者： 足立 吉隆 ,  中山 誠
出願人/特許権者： 国立大学法人 鹿児島大学 ,  株式会社中山電機
代理人 (5件)： 下田 容一郎 ,  下田 憲雅 ,  住吉 勝彦 ,  瀧澤 匡則 ,  野崎 俊剛
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013066684
公開番号（公開出願番号）：WO2013-191165
出願日： 2013年06月18日
公開日（公表日）： 2013年12月27日
要約：

研磨機構(20)が付属する観察撮影装置が開示される。研磨機構(20)は、回転軸(23)が鉛直である回転盤(24)と、この回転盤(24)の下面に取付けられ試料(15)の表面を研磨する研磨布(26、27)と、この研磨布(26、27)より下に配置され上向きに研磨材を含む研磨液を噴射して研磨布(26、27)を濡らす研磨液噴射ノズル(31、33)とを備えている。

請求項（抜粋）：

試料の表面を観察し撮影することができる撮像部付き顕微鏡に、前記観察に先立って前記試料の表面を垂直方向に等間隔又は設定した量を繰返し研磨する研磨機構が付属している観察撮影装置であって、 前記研磨機構は、回転軸が鉛直である回転盤と、この回転盤の下面に取付けられ前記試料の表面を研磨する研磨布と、この研磨布より下に配置され上向きに研磨材を含む研磨液を噴射して前記研磨布を濡らす研磨液噴射ノズルとを備えていることを特徴とする観察撮影装置。

IPC (4件)：

B24B 37/00 ,  B24B 37/34 ,  B24B 49/12 ,  C25F 7/00

FI (5件)：

B24B37/00 D ,  B24B37/00 X ,  B24B37/00 K ,  B24B49/12 ,  C25F7/00 M

Fターム (26件)：

3C034AA19 ,  3C034BB93 ,  3C034CA05 ,  3C034CA13 ,  3C034CA22 ,  3C034CB13 ,  3C158AA07 ,  3C158AA09 ,  3C158AA18 ,  3C158AC02 ,  3C158AC04 ,  3C158AC05 ,  3C158BA01 ,  3C158BA07 ,  3C158BB02 ,  3C158BB08 ,  3C158BB09 ,  3C158CA04 ,  3C158CB05 ,  3C158DA02 ,  3C158DA13 ,  3C158DA17 ,  3C158EA26 ,  3C158EB01 ,  3C158EB04 ,  3C158ED21