特許
J-GLOBAL ID：201603017650262817
極端紫外光生成装置および極端紫外光生成システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
保坂 延寿
, 新井 信昭
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2013064364
公開番号（公開出願番号）：WO2013-180007
出願日： 2013年05月23日
公開日（公表日）： 2013年12月05日
要約：
極端紫外光生成装置が、ターゲットにレーザ光を照射してターゲットをプラズマ化することにより極端紫外光を生成するように構成されていてもよい。この極端紫外光生成装置は、少なくとも1つの貫通孔が設けられたチャンバと、上記少なくとも1つの貫通孔を通してチャンバ内の所定領域にレーザ光を導入するように構成された光学系と、上記所定領域に粉体のターゲットを供給するように構成されたターゲット供給装置と、を備えてもよい。
請求項（抜粋）：
ターゲットにレーザ光を照射してターゲットをプラズマ化することにより極端紫外光を生成するように構成された極端紫外光生成装置であって、
少なくとも1つの貫通孔が設けられたチャンバと、
前記少なくとも1つの貫通孔を通して前記チャンバ内の所定領域に前記レーザ光を導入するように構成された光学系と、
前記所定領域に粉体のターゲットを供給するように構成されたターゲット供給装置と、
を備える極端紫外光生成装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (5件)：
4C092AA06
, 4C092AA07
, 4C092AA13
, 4C092AC09
, 4C092BD01
