特許
J-GLOBAL ID：201603017802595361

光インプリント用硬化性組成物、パターン形成方法、微細パターン、および半導体デバイスの製造方法

発明者：
北川 浩隆

北川 浩隆 について

, 
後藤 雄一郎

後藤 雄一郎 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人特許事務所サイクス
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-203878
公開番号（公開出願番号）：特開2015-070145
特許番号：特許第6029558号
出願日： 2013年09月30日
公開日（公表日）： 2015年04月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】重合性化合物(A)と、光重合開始剤(B)と、一般式(I)で表される化合物(C)とを含有する、光インプリント用硬化性組成物。 一般式(I) (一般式(I)中、Aは、2〜6価の多価アルコール残基を表す。pは0〜2を表し、qは1〜6を表し、p+qは2〜6の整数を表し、mおよびnはそれぞれ独立に0〜20を表す。下式(1)で表されるrは6〜20である。Rは、それぞれ独立に炭素数1〜10のアルキル基、アリール基、またはアシル基を表す。) r=(mの合計数)+(nの合計数) (1)
IPC (3件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01) ,  C08F 2/44 ( 200 6.01) ,  B29C 59/02 ( 200 6.01)
FI (3件)：
H01L 21/30 502 D ,  C08F 2/44 ZNM C ,  B29C 59/02 Z
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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