特許
J-GLOBAL ID:201603017987602261
コンバージェント研磨方法およびコンバージェント研磨システム
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (2件):
岡部 憲昭
, 穐場 仁
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-501190
特許番号:特許第5968418号
出願日: 2012年03月20日
請求項(抜粋):
【請求項1】 光学素子を研磨するための研磨システムであって、
半径方向寸法を有する研磨パッドと、
前記研磨パッド上に配置され、セプタム負荷(σs)を受け、前記光学素子を部分的に包囲するように構成されるセプタムと、を備え、
前記光学素子は、前記半径方向寸法の範囲にわたって前記研磨パッドと接触し、光学素子負荷(σo)を受け、前記光学素子負荷(σo)は前記セプタム負荷(σs)と異なる値とすることができ、前記研磨パッドのパッド摩耗率が、前記半径方向寸法の前記範囲にわたって、半径方向寸法の関数としてほぼ一定である研磨システム。
IPC (1件):
FI (2件):
B24B 37/00 Z
, B24B 37/00 H
引用特許:
出願人引用 (6件)
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特開昭63-283859
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研磨装置および研磨方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-198779
出願人:住友金属工業株式会社
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化学機械研磨装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-376703
出願人:ソニー株式会社
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審査官引用 (5件)
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特開昭63-283859
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研磨装置および研磨方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-198779
出願人:住友金属工業株式会社
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化学機械研磨装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2001-376703
出願人:ソニー株式会社
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