基材上に形成した構造体、構造体の製造方法および線パターン

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人高橋・林アンドパートナーズ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-058271
公開番号（公開出願番号）：特開2016-163888
出願日： 2016年03月23日
公開日（公表日）： 2016年09月08日
要約：

【課題】基材上での描画線の幅方向へのインクの濡れ広がりを抑制し、高アスペクト比を実現可能な構造体、その構造体の製造方法及び線パターンの提供。【解決手段】液滴が基材50の移動方向に傾斜して連続して重なり合って固化してなる液滴重畳固化層1と、液滴重畳固化層1上を前記液滴が流動して前記液滴が重畳せずに連続して固化してなる液滴流動固化層3と、液滴重畳固化層1と液滴流動固化層3との境界域に形成された陥凹部5と、を備える構造体10とその製造法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材を移動させるための移動装置と、前記基材と対向して配設され、該基材の構造体形成面の光の照射位置に加熱領域を形成するための加熱装置と、前記加熱装置から前記基材の移動方向に前記加熱装置と離間して配設され、前記基材の前記加熱領域に液滴を着弾させるための吐出装置と、ここで、前記液滴は、温度プロファイルのピーク温度から前記基材の移動方向の下流側の低温領域に着弾され、前記液滴の着弾位置における前記基材の表面温度を測定する温度測定装置と、加熱された前記液滴の着弾位置の表面温度が前記基材の移動方向に向かって低くなる温度分布を形成するように前記加熱装置及び前記移動装置を制御するための制御装置と、を備える構造体製造装置。

IPC (4件)：

B05C 5/00 , B05C 9/14 , B05C 11/00 , H05K 3/10

FI (4件)：

B05C5/00 101 , B05C9/14 , B05C11/00 , H05K3/10 D

Fターム (40件)：

4F041AA02 , 4F041AA05 , 4F041AB01 , 4F041BA01 , 4F041BA10 , 4F041BA13 , 4F042AA02 , 4F042AA06 , 4F042BA19 , 4F042BA22 , 4F042DA09 , 4F042DB18 , 4F042DB41 , 4F042DB51 , 4F042DH09 , 5E343AA02 , 5E343AA12 , 5E343AA16 , 5E343AA18 , 5E343AA22 , 5E343AA26 , 5E343BB23 , 5E343BB24 , 5E343BB25 , 5E343BB28 , 5E343BB34 , 5E343BB35 , 5E343BB40 , 5E343BB44 , 5E343BB48 , 5E343BB49 , 5E343BB59 , 5E343BB72 , 5E343DD12 , 5E343ER32 , 5E343ER42 , 5E343ER43 , 5E343ER45 , 5E343FF05 , 5E343GG20

引用特許：

出願人引用 (5件)

パターン形成方法、識別コード形成方法、液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法及び電気光学装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-055111 出願人：セイコーエプソン株式会社
描画装置、描画方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-074385 出願人：セイコーエプソン株式会社
パターン膜形成方法、装置と材料および製品
公報種別：公表公報出願番号：特願2006-547232 出願人：独立行政法人科学技術振興機構, 国立大学法人東京工業大学, 株式会社日本触媒

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