特許
J-GLOBAL ID：201603018108453050

高周波焼入装置

発明者：
久保田 昇

久保田 昇 について


出願人/特許権者：
富士電子工業株式会社

富士電子工業株式会社 について


代理人 (1件)： 藤田 隆
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-109630
公開番号（公開出願番号）：特開2013-237875
特許番号：特許第6001321号
出願日： 2012年05月11日
公開日（公表日）： 2013年11月28日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 長尺状の被加熱物の表面に形成された、長手方向にのびる溝を高周波焼入れする高周波焼入装置であって、前記高周波焼入装置は、前記溝を誘導加熱するための加熱導体を有する誘導加熱装置と、誘導加熱された溝を急冷する冷却装置とを有し、 前記加熱導体は、被加熱物の長手方向にのびる対向部を有しており、 前記対向部は、被加熱物の溝内に収容されて被加熱物の溝の長手方向の一部に対向し、 高周波焼入装置は、前記誘導加熱装置及び冷却装置に対して、被加熱物を長手方向に相対移動させながら、前記溝を順に高周波焼入れするものであり、 加熱導体における被加熱物の相対移動方向の上流側と、下流側と、被加熱物の加熱中の部位を含む横断面内に、各々矯正部材が配置されており、 前記各矯正部材は、誘導加熱された被加熱物が歪む方向の表面から、所定間隔をおいて配置されて、被加熱物の歪み量を規制するものであり、 被加熱物が歪んで前記矯正部材に当接して、前記矯正部材は被加熱物がそれ以上歪むことを規制することを特徴とする高周波焼入装置。
IPC (3件)：
C21D 1/10 ( 200 6.01) ,  C21D 9/04 ( 200 6.01) ,  H05B 6/10 ( 200 6.01)
FI (5件)：
C21D 1/10 M ,  C21D 1/10 Y ,  C21D 1/10 F ,  C21D 9/04 B ,  H05B 6/10 361
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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