特許
J-GLOBAL ID：201603018153581336

インプリント用マスターモールド及びレプリカモールドの製造方法

発明者：
中田 尚子

中田 尚子 について

, 
福田 雅治

福田 雅治 について

, 
吉田 幸司

吉田 幸司 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (3件)： 米田 潤三 ,  太田 昌孝 ,  皿田 秀夫
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-210899
公開番号（公開出願番号）：特開2014-065177
特許番号：特許第5994528号
出願日： 2012年09月25日
公開日（公表日）： 2014年04月17日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 複数の微細凹凸パターンを有するインプリント用レプリカモールドをナノインプリントリソグラフィーにより作製するために用いられるマスターモールドを製造する方法であって、 前記レプリカモールドの設計パターンデータから仮マスターパターンデータを生成する工程と、 前記仮マスターパターンデータに基づいて仮マスターモールドを作製する工程と、 前記仮マスターモールドを基に、ナノインプリントリソグラフィーにより仮レプリカモールドを作製する工程と、 前記仮レプリカモールドの各微細凹凸パターンの位置と前記レプリカモールドの設計パターンデータにおける各微細凹凸パターンの位置とを対比することで、前記レプリカモールドにおいて微細凹凸パターンが形成されるべき位置から位置ずれの生じている前記仮レプリカモールドの微細凹凸パターンの位置ずれベクトルを算出する工程と、 前記仮レプリカモールドにおける前記位置ずれの生じる微細凹凸パターンの位置ずれベクトルに基づいて、前記位置ずれの生じる微細凹凸パターンに対応する前記仮マスターパターンデータにおける微細凹凸パターンの位置を補正してなる補正マスターパターンデータを生成する工程と、 前記補正マスターパターンデータに基づいて、前記マスターモールドを製造する工程と を含むことを特徴とするマスターモールド製造方法。
IPC (2件)：
B29C 59/02 ( 200 6.01) ,  B29C 33/38 ( 200 6.01)
FI (2件)：
B29C 59/02 B ,  B29C 33/38
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)

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