特許
J-GLOBAL ID：201603018690538358
フォトレジストでパターンを形成した曲面体の製造方法及び露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
松本 征二
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-001399
特許番号：特許第6033477号
出願日： 2016年01月06日
要約：
【課題】曲げ加工済みの多様な曲率の曲面体に直接且つ精度よく遮光膜を形成する製造方法を提供する。
【解決手段】湾曲可能なフィルム状フォトマスク7及び陰圧形成用フィルム2との間に、フォトレジストを塗布した曲面体8を挿入する挿入工程、吸引ポンプ3により、前記湾曲可能なフィルム状フォトマスク7及び前記陰圧形成用フィルム2で形成された空間の空気を吸引することで、前記曲面体8のフォトレジストを塗布した面に前記湾曲可能なフィルム状フォトマスク7を密着し、前記曲面体8の他方の面に前記陰圧形成用フィルム2を密着する密着工程、前記湾曲可能なフィルム状フォトマスク7を介して前記曲面体に塗布されているフォトレジストを露光する露光工程、露光した前記曲面体8を現像し、余分なフォトレジストを除去する現像工程、を含む、フォトレジストでパターンを形成した曲面体の製造方法。
【選択図】図2
請求項（抜粋）：
【請求項1】 湾曲可能なフィルム状フォトマスク及び陰圧形成用フィルムとの間に、フォトレジストを塗布した曲面ガラスを挿入する挿入工程、
吸引ポンプにより、前記湾曲可能なフィルム状フォトマスク及び前記陰圧形成用フィルムで形成された空間の空気を吸引することで、前記曲面ガラスのフォトレジストを塗布した面に前記湾曲可能なフィルム状フォトマスクを密着し、前記曲面ガラスの他方の面に前記陰圧形成用フィルムを密着する密着工程、
前記湾曲可能なフィルム状フォトマスクを介して前記曲面ガラスに塗布されているフォトレジストを露光する露光工程、
露光した前記曲面ガラスを現像し、余分なフォトレジストを除去する現像工程、
を含む、フォトレジストでパターンを形成した曲面ガラスの製造方法。
IPC (2件)：
G03F 7/24 ( 200 6.01)
, G03F 7/09 ( 200 6.01)
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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