特許
J-GLOBAL ID：201603018739600810
プラズマCVD法により形成された化学蒸着膜
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
渡辺 尚
, 小野 由己男
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-050960
公開番号（公開出願番号）：特開2013-185206
特許番号：特許第5967982号
出願日： 2012年03月07日
公開日（公表日）： 2013年09月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】10元素%以上30元素%未満のケイ素原子と、10元素%以上35元素%未満の酸素原子と、10元素%以上30元素%未満の炭素原子と、10元素%以上50元素%未満の水素原子と、を含む第1化学蒸着膜と、
前記第1化学蒸着膜上に形成され、10元素%以上20元素%未満のケイ素原子と、10元素%以下の酸素原子と、20元素%以上35元素%未満の炭素原子と、30元素%以上55元素%未満の水素原子と、を含む第2化学蒸着膜と、
前記第2化学蒸着膜上に形成され、30元素%以上35元素%未満のケイ素原子と、35元素%超70元素%以下の酸素原子と、5元素%以下の水素原子と、を含む第3化学蒸着膜と、
を備えた、積層体。
IPC (2件)：
C23C 16/42 ( 200 6.01)
, B32B 9/00 ( 200 6.01)
