特許
J-GLOBAL ID：201603018958169890
カルボニル基含有カルバゾールノボラックを含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-170442
公開番号（公開出願番号）：特開2014-029435
特許番号：特許第6004172号
出願日： 2012年07月31日
公開日（公表日）： 2014年02月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】下記式(1)の単位構造:
(式(1)中、Aはカルバゾールを有する構造を、Bは芳香族環を有する構造を、Cは水素原子、アルキル基又は芳香族環を有する構造を示し、BとCは互いに環を構成していても良い。A、B、及びCを合わせた構造中に1〜4個のカルボキシル基若しくはその塩、又はカルボン酸エステル基を有する。)で表される単位構造を含むポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/11 ( 200 6.01)
, G03F 7/26 ( 200 6.01)
, G03F 7/40 ( 200 6.01)
, C08G 12/26 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/11 503
, G03F 7/26 511
, G03F 7/40 521
, C08G 12/26
, H01L 21/30 574
