特許
J-GLOBAL ID:201603019315225900
薄膜拡散バリア
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (7件):
辻居 幸一
, 熊倉 禎男
, 箱田 篤
, 浅井 賢治
, 山崎 一夫
, 市川 さつき
, 松田 七重
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-550481
特許番号:特許第5960283号
出願日: 2012年12月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】 (A)エラストマー基板をカチオン性溶液に暴露して前記エラストマー基板上にカチオン層を製造するステップと;
(B)前記カチオン層をアニオン性溶液に暴露して前記カチオン層上にアニオン層を製造するステップと
を含む、エラストマー基板上に物質拡散バリアを製造する方法であって、
前記カチオン性溶液はカチオン性材料を含み、前記カチオン性材料はポリエチレンオキシドを含み、前記カチオン層はポリエチレンオキシドを含み、
前記アニオン溶液は積層可能な材料を含み、前記積層可能な材料はポリアクリル酸を含み、前記アニオン層はポリアクリル酸を含み、
層が前記カチオン層および前記アニオン層を含み、前記層が前記物質拡散バリアを含む方法。
IPC (6件):
B05D 7/04 ( 200 6.01)
, B32B 25/00 ( 200 6.01)
, B32B 27/04 ( 200 6.01)
, B32B 27/24 ( 200 6.01)
, B32B 27/00 ( 200 6.01)
, B60C 5/14 ( 200 6.01)
FI (6件):
B05D 7/04
, B32B 25/00
, B32B 27/04 Z
, B32B 27/24
, B32B 27/00 B
, B60C 5/14
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