特許

J-GLOBAL ID：201603019749356719

気相成長装置

発明者： 徳永 裕樹 ,  田渕 俊也 ,  池永 和正
出願人/特許権者： 大陽日酸株式会社
代理人 (3件)： 志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  伏見 俊介
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-260140
公開番号（公開出願番号）：特開2014-107449
特許番号：特許第6013155号
出願日： 2012年11月28日
公開日（公表日）： 2014年06月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 チャンバ内に収容され、貫通部を有し、かつ回転可能な構成とされたサセプタと、 前記貫通部に回転可能に配置されており、オリフラを有した基板の外形よりも大きい円盤状とされ、かつ前記基板が載置される基板載置面を含む上面を有する基板載置部材と、 前記基板載置面の外側に位置する前記基板載置部材の上面に配置され、かつ前記基板の外周を囲むリング状の第1の部材、及び前記基板載置面に配置された前記基板の前記オリフラと前記第1の部材との間に位置する前記基板載置部材の上面を覆い、かつ前記第1の部材と一体とされた第2の部材よりなる基板位置規制部材本体、及び該基板位置規制部材本体の一部を切断する切断部を含む基板位置規制部材と、 前記基板載置部材の下方に配置され、前記基板載置部材を介して、前記基板を加熱する加熱装置と、 を有することを特徴とする気相成長装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ( 200 6.01) ,  C23C 16/458 ( 200 6.01) ,  H01L 21/683 ( 200 6.01)

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/458 ,  H01L 21/68 N