特許
J-GLOBAL ID：201603020067847360

細胞培養基材、その製造方法、およびそれを用いた細胞培養方法

発明者：
今富 伸哉

今富 伸哉 について

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山田 悟

山田 悟 について

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近藤 聡

近藤 聡 について

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前島 雪絵

前島 雪絵 について


出願人/特許権者：
東ソー株式会社

東ソー株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-057384
公開番号（公開出願番号）：特開2016-192957
出願日： 2016年03月22日
公開日（公表日）： 2016年11月17日
要約：
【課題】短時間での細胞剥離を可能にする細胞培養基材、その製造方法及びそれを用いた細胞培養方法の提供。【解決手段】下記(A)および(B)のブロックを含むブロック共重合体で表面を被覆した細胞培養基材。(A)水に対する下限臨界溶解温度(LCST)が0°C〜50°Cの範囲にある温度応答性重合体のブロック。(B)0°C〜50°Cの範囲にLCSTを持たない、HLB値(グリフィン法)が9〜20の範囲にある親水性重合体のブロック。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
下記(A)および(B)のブロックを含むブロック共重合体で表面を被覆した細胞培養基材。 (A)水に対する下限臨界溶解温度(LCST)が0°C〜50°Cの範囲にある温度応答性重合体のブロック。 (B)0°C〜50°Cの範囲にLCSTを持たない、HLB値(グリフィン法)が9〜20の範囲にある親水性重合体のブロック。
IPC (2件)：
C12M 3/00 ,  C12N 5/071
FI (2件)：
C12M3/00 A ,  C12N5/071
Fターム (11件)：
4B029AA02 ,  4B029BB11 ,  4B029CC02 ,  4B029DG08 ,  4B029GB09 ,  4B065AA90X ,  4B065AA91X ,  4B065BC03 ,  4B065BC41 ,  4B065BD50 ,  4B065CA44
引用特許：
審査官引用 (5件)
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