特許

J-GLOBAL ID：201603020096328569

赤外光学膜、円偏光ミラー、円偏光ミラーを備えたレーザ加工機、および赤外光学膜の製造方法

発明者： 中井 秀和
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (4件)： 大岩 増雄 ,  竹中 岑生 ,  村上 啓吾 ,  吉澤 憲治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-106791
公開番号（公開出願番号）：特開2016-136167
出願日： 2013年05月21日
公開日（公表日）： 2016年07月28日
要約：

【課題】光学性能を大きく低下させることなく、耐熱性を強化した赤外光学膜を提供すること。【解決手段】基板上に形成された光学反射膜を覆うように、Geで形成された高屈折層と、Geより小さい屈折率を有する材料で形成された低屈折層とを交互に形成した多層の赤外光学膜であって、各低屈折層はZnSまたはZnSeのいずれかの材料の層を有し、各高屈折層の材料はGeであり、前記低屈折層の少なくとも一層において、前記ZnSまたはZnSeのいずれかの材料の層とフッ化物の層とを含むようにした。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板上に形成された光学反射膜を覆うように、Geで形成された高屈折層と、Geより小さい屈折率を有する材料で形成された低屈折層とを、前記光学反射膜に接する層が低屈折層となるように交互に形成した多層の赤外光学膜であって、 各低屈折層はZnSまたはZnSeのいずれかの材料の層を有し、前記低屈折層の少なくとも一層において、前記ZnSまたはZnSeのいずれかの材料の層とフッ化物の層とを含むことを特徴とする赤外光学膜。

IPC (4件)：

G02B 5/26 ,  B23K 26/064 ,  G02B 5/30 ,  G02B 5/28

FI (4件)：

G02B5/26 ,  B23K26/06 Z ,  G02B5/30 ,  G02B5/28

Fターム (23件)：

2H148FA05 ,  2H148FA12 ,  2H148FA24 ,  2H148GA07 ,  2H148GA12 ,  2H148GA19 ,  2H148GA33 ,  2H148GA61 ,  2H149AA21 ,  2H149AB13 ,  2H149BA05 ,  2H149BA22 ,  2H149BB28 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB38 ,  2H149FA41W ,  2H149FA41Y ,  2H149FA41Z ,  2H149FC07 ,  2H149FD25 ,  4E068CB10 ,  4E068CD08