特許
J-GLOBAL ID：201603020194611970
膜の形成方法
出願人/特許権者：
キヤノン株式会社
キヤノン株式会社 について
代理人 (2件)： 渡辺 敬介 , 山口 芳広
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-193271
公開番号（公開出願番号）：特開2013-110383
特許番号：特許第6012344号
出願日： 2012年09月03日
公開日（公表日）： 2013年06月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板上に、重合性モノマーと、光刺激によりガスを発生する感光性ガス発生剤と、を含む光硬化性組成物を塗布して塗布膜を形成する工程と、
前記塗布膜にモールドを接触させる工程と、
前記モールドを介して前記塗布膜に光を照射して前記塗布膜を硬化させると共に前記塗布膜内にガスを発生させる工程と、
前記塗布膜に光を照射した後、前記塗布膜から前記モールドを離し、前記基板上に所定のパターン形状を有する膜を形成する工程と、を含み、
前記塗布膜に光を照射する工程において、前記塗布膜に含まれる重合性モノマーの重合反応の反応速度が、前記塗布膜に含まれる感光性ガス発生剤のガス発生反応の反応速度よりも速いことを特徴とする、膜の製造方法。
IPC (5件)：
H01L 21/027 ( 200 6.01)
, C08F 2/00 ( 200 6.01)
, C08F 2/44 ( 200 6.01)
, C08F 2/48 ( 200 6.01)
, B29C 59/02 ( 200 6.01)
FI (5件)：
引用特許：
Copyright (c) 2009 Japan Science and Technology Agency. All Rights Reserved