特許
J-GLOBAL ID：201603020429420573
研磨用組成物およびそれを用いた研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (3件)：
上羽 秀敏
, 松山 隆夫
, 坂根 剛
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-555955
特許番号：特許第5939578号
出願日： 2012年02月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 砥粒を含まずにシリコンウェハを研磨する研磨用組成物であって、
炭素数が1〜6のアミン化合物からなる研磨促進剤と、
水溶性高分子と、
下記一般式(1)で示される2つの窒素を有するアルキルアミン構造を含み、かつ、少なくとも1つのブロック型ポリエーテルが前記アルキルアミン構造の2つの窒素のいずれかに結合された化合物であって、オキシエチレン基およびオキシプロピレン基が前記ブロック型ポリエーテルに含まれる化合物とを含み、
前記化合物の濃度は、0.1〜10ppmである、研磨用組成物。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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