特許

J-GLOBAL ID：201603020513267390

基板製造装置

発明者： 中森 靖仁 ,  岡本 裕司
出願人/特許権者： 住友重機械工業株式会社
代理人 (1件)： 来山 幹雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-241785
公開番号（公開出願番号）：特開2014-093350
特許番号：特許第5920832号
出願日： 2012年11月01日
公開日（公表日）： 2014年05月19日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 スルーホールが形成された基板を保持面に保持するステージと、 前記ステージに保持された基板に対向し、前記基板に向けて、薄膜材料の液滴を吐出するノズルヘッドと、 前記ステージに形成され、前記保持面に開口する複数の吸引流路と、 前記吸引流路を介して、前記保持面に保持された基板を吸引する吸引装置と、 前記吸引流路の各々に配置された流量調整機構と を有し、 前記流量調整機構は弾性部材を含み、前記保持面への開口が基板のスルーホールと重なっている前記吸引流路においては、前記流量調整機構の上流側の前記吸引流路内の圧力と、下流側の前記吸引流路内の圧力との差に基づいて前記弾性部材が弾性変形することによって、前記吸引流路の流路断面を制限し、前記保持面への開口が基板で塞がれている前記吸引流路においては、前記弾性部材が中立状態のときの流路断面が確保される基板製造装置。

IPC (5件)：

H05K 3/28 ( 200 6.01) ,  H05K 3/10 ( 200 6.01) ,  B05C 13/02 ( 200 6.01) ,  H05K 3/00 ( 200 6.01) ,  B05C 5/00 ( 200 6.01)

FI (5件)：

H05K 3/28 E ,  H05K 3/10 D ,  B05C 13/02 ,  H05K 3/00 L ,  B05C 5/00 101

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 描画装置及び描画方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-236989   出願人：住友重機械工業株式会社
• 特開昭60-063984
  

審査官引用 (2件)

• 描画装置及び描画方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-236989   出願人：住友重機械工業株式会社
• 特開昭60-063984