局地的に偏光解消領域を有する偏光子の製造方法、これを用いて製造された偏光子および偏光板

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：実広信哉 , 渡部崇
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-531555
公開番号（公開出願番号）：特表2016-525725
出願日： 2014年09月26日
公開日（公表日）： 2016年08月25日
要約：

本発明は、偏光子の製造方法において、ヨウ素および二色性染料のうちのいずれか1つ以上が染着したポリビニルアルコール系偏光子を用意するステップと、前記偏光子の一部領域に、脱色剤を1重量%〜30重量%で含む脱色溶液を局地的に接触させて、400nm〜800nmの波長帯域における単体透過度が80%以上の偏光解消領域を形成するステップとを含む偏光子の製造方法およびこれを用いて製造された偏光子に関するものである。

請求項（抜粋）：

ヨウ素および二色性染料のうちのいずれか1つ以上が染着したポリビニルアルコール系偏光子を用意するステップと、前記偏光子の一部領域に、脱色剤を1重量%〜30重量%で含む脱色溶液を局地的に接触させて、400nm〜800nmの波長帯域における単体透過度が80%以上の偏光解消領域を形成するステップとを含むことを特徴とする、偏光子の製造方法。

IPC (1件)：

G02B 5/30

FI (1件)：

G02B5/30

Fターム (15件)：

2H149AA02 , 2H149AA18 , 2H149AB26 , 2H149BA02 , 2H149BA13 , 2H149BA14 , 2H149BB24 , 2H149CA02 , 2H149EA12 , 2H149FA03W , 2H149FD02 , 2H149FD09 , 2H149FD25 , 2H149FD46 , 2H149FD47

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭58-168020
特開昭63-265203
偏光窓及び不透明マスク層を有する電子デバイスのディスプレイ
公報種別：公開公報出願番号：特願2011-234105 出願人：アップルインコーポレイテッド

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