特許

J-GLOBAL ID：201603020760933920

光学異方性層とその製造方法、積層体、偏光板、表示装置、液晶化合物とその製造方法、カルボン酸化合物

発明者： 松山 拓史 ,  後藤 亮司 ,  石川 博之 ,  ▲高▼橋 慶太 ,  勝又 泰司
出願人/特許権者： 富士フイルム株式会社
代理人 (2件)： 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2015-149996
公開番号（公開出願番号）：特開2016-081035
出願日： 2015年07月29日
公開日（公表日）： 2016年05月16日
要約：

【課題】溶解性と相転移温度を改良した逆波長分散性を有する液晶化合物及びそれを用いた光学異方性層、積層体、偏光板、表示装置、ならびに、かかる液晶化合物と光学異方性層の製造方法、液晶化合物の中間体であるカルボン酸化合物を提供する。【解決手段】光学異方性層は、特定の光学活性炭素を有する液晶化合物を含む、又はこの液晶化合物を含む重合性組成物の硬化により形成されてなり、液晶化合物の分子の長軸が配向してなる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式1で表される液晶化合物を含む、または、該液晶化合物を含む重合性組成物の硬化により形成されてなる光学異方性層であって、前記液晶化合物の分子の長軸が配向してなる光学異方性層。

IPC (2件)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/133

FI (3件)：

G02B5/30 ,  G02F1/13363 ,  G02F1/1337 520

Fターム (36件)：

2H149AA02 ,  2H149AB02 ,  2H149AB06 ,  2H149AB26 ,  2H149BA02 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DA18 ,  2H149DB02 ,  2H149EA02 ,  2H149FA24Y ,  2H149FA26Y ,  2H149FA28Y ,  2H149FA33Y ,  2H149FA36Y ,  2H149FD05 ,  2H191FA22X ,  2H191FA22Z ,  2H191FA30X ,  2H191FA30Z ,  2H191FA94X ,  2H191FA94Z ,  2H191FB02 ,  2H191FB05 ,  2H191FC33 ,  2H191GA08 ,  2H191GA22 ,  2H191HA15 ,  2H191PA53 ,  2H191PA84 ,  2H290AA73 ,  2H290BA30 ,  2H290BF13 ,  2H290BF25 ,  2H290DA01 ,  2H290DA03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ジヒドロキシベンゼン化合物の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2010-226288   出願人：住友化学株式会社
• 重合性液晶化合物と安定剤からなる液晶組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-093610   出願人：富士フイルム株式会社
• 液晶組成物、光吸収異方性膜、偏光素子、液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-160844   出願人：富士フイルム株式会社