特許

J-GLOBAL ID：201603020869048374

多孔質金属薄膜の製造方法及び多孔質金属薄膜

発明者： 春本 高志 ,  田村 洋平 ,  石黒 孝
出願人/特許権者： 学校法人東京理科大学
代理人 (1件)： 正林 真之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-150789
公開番号（公開出願番号）：特開2016-023356
出願日： 2014年07月24日
公開日（公表日）： 2016年02月08日
要約：

【課題】強酸や強アルカリを使用する必要のない、簡便な多孔質金属薄膜の製造方法及び多孔質金属薄膜を提供する。【解決手段】多孔質金属薄膜の製造方法は、卑金属と貴金属とからなる合金薄膜を基材上に形成する工程と、該合金薄膜を、卑金属と錯体を形成可能なキレート剤を含む水で水熱処理する工程と、を有する。卑金属は、Al、Zn及びMgからなる群から選択される1種以上であることが好ましい。貴金属は、Pd、Au及びPtからなる群から選択される1種以上であることが好ましい。キレート剤は、多価カルボン酸であることが好ましい。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

卑金属と貴金属とからなる合金薄膜を基材上に形成する工程と、 前記合金薄膜を、前記卑金属と錯体を形成可能なキレート剤を含む水で水熱処理する工程と、を有する、多孔質金属薄膜の製造方法。

IPC (7件)：

C22C 1/08 ,  B01J 37/10 ,  B01J 23/44 ,  C22C 5/02 ,  C22C 5/04 ,  C22C 5/06 ,  C23F 1/02

FI (7件)：

C22C1/08 E ,  B01J37/10 ,  B01J23/44 M ,  C22C5/02 ,  C22C5/04 ,  C22C5/06 Z ,  C23F1/02

Fターム (38件)：

4G169AA02 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169BA18 ,  4G169BA21C ,  4G169BA27C ,  4G169BB02A ,  4G169BC10A ,  4G169BC16A ,  4G169BC16B ,  4G169BC32A ,  4G169BC33A ,  4G169BC35A ,  4G169BC69A ,  4G169BC72B ,  4G169BD05B ,  4G169BE08C ,  4G169DA06 ,  4G169EA07 ,  4G169FA03 ,  4G169FB02 ,  4G169FB14 ,  4G169FB29 ,  4G169FB48 ,  4G169FC02 ,  4G169FC04 ,  4G169FC10 ,  4K057WA05 ,  4K057WB01 ,  4K057WB05 ,  4K057WB07 ,  4K057WB15 ,  4K057WE13 ,  4K057WE14 ,  4K057WG02 ,  4K057WN01 ,  4K057WN02 ,  4K057WN10

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 触媒
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2013-522302   出願人：ジョンソンマッセイフュエルセルズリミテッド
• 空格子点型格子欠陥を有するカーボン担持白金スケルトン合金電極触媒
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-242677   出願人：エヌ・イーケムキャット株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Achieving finer pores and ligaments in nanoporous palladium-nickel thin films