特許
J-GLOBAL ID：201603020943265846
粒子線治療装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
特許業務法人開知国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2016-115182
公開番号（公開出願番号）：特開2016-155019
出願日： 2016年06月09日
公開日（公表日）： 2016年09月01日
要約：
【課題】粒子線の照射準備期間及び照射期間を含めた治療時間中にX線照射による患部撮像を行う粒子線治療装置において、高精度に粒子線の線量管理を行うことができる粒子線治療装置を提供する。【解決手段】粒子線を発生させる粒子線発生装置と、治療室内に設置され、標的に対して粒子線を照射する照射野形成装置と、粒子線発生装置と照射野形成装置とを連絡する粒子線輸送系6と、治療室内に設置され、X線を照射して標的の位置を撮像するX線撮像装置と、照射野形成装置内かつ粒子線が通過する位置に設置された線量計測器8と、治療時間中にX線が照射されるとき、線量計測器8の計測結果からX線の計測結果を除外するように制御する制御装置400を備える粒子線治療装置。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
粒子線治療装置であって、
粒子線を発生させる粒子線発生装置と、
治療室内に設置され、標的に対して前記粒子線を照射するための照射野形成装置であって、前記粒子線が通過する位置に線量計測器が設置された照射野形成装置と、
前記粒子線発生装置と前記照射野形成装置とを連絡する粒子線輸送系と、
前記治療室内に設置され、X線を照射して前記標的の位置を撮像するX線撮像装置と、
前記線量計測器の計測結果から前記X線撮像装置由来の散乱X線の計測結果を除外する制御を行う制御装置とを備えた
ことを特徴とする粒子線治療装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
4C082AA01
, 4C082AC04
, 4C082AE03
, 4C082AG02
, 4C082AG09
, 4C082AG12
, 4C082AG32
, 4C082AJ08
, 4C082AP01
