特許
J-GLOBAL ID：201603020998474762
描画装置および描画方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉竹 英俊
, 有田 貴弘
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-055341
公開番号（公開出願番号）：特開2013-190505
特許番号：特許第5875904号
出願日： 2012年03月13日
公開日（公表日）： 2013年09月26日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 基板に光を照射してパターンを描画する描画装置であって、
所定軸に沿って間隔をあけて配列された複数のヘッドユニットを備えるヘッドユニット群と、
前記ヘッドユニット群を、前記基板に対して前記所定軸に沿って相対的に移動させる移動機構と、
を備え、
前記複数のヘッドユニットのそれぞれが、
前記基板に対して前記所定軸に沿って相対的に移動されつつ、前記基板に形成するべきパターンに応じた描画光を前記基板に向けて出射する描画ヘッドと、
前記基板の面内の部分領域を撮像する撮像ヘッドと、
前記撮像ヘッドが取得した撮像データに基づいて、前記描画光の照射位置を補正する描画位置補正部と、
前記複数のヘッドユニットのそれぞれにおける前記描画光の照射を、独立して制御する制御部と、
を備え、
前記制御部が、
処理対象となる基板の面内に、非描画領域を挟んで互いに分離された複数の描画領域が設定されている場合に、前記複数の描画領域のそれぞれを、前記複数のヘッドユニットのいずれかと対応付けし、前記複数のヘッドユニットのそれぞれに、当該ヘッドユニットと対応付けられた描画領域に対する前記描画光の照射を担当させる、描画装置。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ( 200 6.01)
, H01L 21/68 ( 200 6.01)
G03F 7/20 505
, H01L 21/68 F
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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