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J-GLOBAL ID：201702200132629076   整理番号：17A0979279

乳酸系めっき浴を用いるナノ結晶銅沈積物の電着

Electrodeposition of nanocrystalline copper deposits using lactic acid-based plating bath

著者 (4件)： KAMEL M. M. (Suez Canal Univ., Ismailia, EGY) ,  ABD EL-MOEMEN A. (Suez Canal Univ., Ismailia, EGY) ,  RASHWAN S. M. (Suez Canal Univ., Ismailia, EGY) ,  BOLBOL A. M.
資料名： Metall (Clausthal-Zellerfeld)  (Metall (Clausthal-Zellerfeld))
巻： 71  号： 7/8  ページ： 282-286  発行年： 2017年07月 
JST資料番号： D0054A  ISSN： 0026-0746  CODEN： MTLLA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 銅めっきについて錯体化剤として乳酸(最大で0.5M)を含むシアン化合物フリーで銅硫酸塩,ナトリウム硫酸塩を含む電解液のめっき浴を用いて,陰分極,カソード電流効率および沈積層の特性に及ぼす浴成分,電流密度と温度を調べた。X線回折と走査電顕等を用いて,沈積膜の相構造と表面形態等を調べた結果,乳酸の添加は滑らかで密な銅めっき沈積物を形成し,接着を非常に強化すること,カソード電流効率は高いが電流密度と温度に依存すること,沈積物の結晶構造は単相の面心立方であり,粒径は25~30nmであることなどを明らかにした。

シソーラス用語： *めっき液 ,  *銅めっき ,  ナノ結晶 ,  電気めっき ,  試薬 ,  硫酸ナトリウム ,  電流密度 ,  陰分極 ,  硫酸銅 ,  *めっき皮膜 ,  結晶粒径 ,  化学組成 ,  付着強さ ,  シアン化物 ,  電解液 ,  表面性状 ,  脂肪族アルコール ,  脂肪族カルボン酸 ,  第二アルコール ,  ヒドロキシ酸
準シソーラス用語： 錯体化剤

分類 (1件)： 電気めっき  (WC08023B)

物質索引 (1件)： 乳酸

タイトルに関連する用語 (6件)： 乳酸 ,  めっき浴 ,  ナノ結晶 ,  銅 ,  沈積物 ,  電着