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J-GLOBAL ID:201702204997331019   整理番号:17A0976737

汚染土壌の1~4mmフラクションに混入するヒ素やクロム,銅,ペンタクロロフェノール,ポリクロロジベンゾダイオキシン/フランの摩耗プロセスによる除去の最適化

Optimizing removal of arsenic, chromium, copper, pentachlorophenol and polychlorodibenzo-dioxins/furans from the 1-4mm fraction of polluted soil using an attrition process
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巻: 38  号: 13-16  ページ: 1862-1877  発行年: 2017年07月 
JST資料番号: C0125B  ISSN: 0959-3330  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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土壌汚染は世界全体の工業諸国が直面する深刻な環境問題の為,汚染土壌浄化に利用したパイロット規模の摩耗プロセスを性能評価した。汚染土壌の1~4mmフラクションに混入するヒ素やクロム,銅,ペンタクロロフェノール(PCP),ポリクロロジベンゾダイオキシン/フラン(PCDDF)を摩耗プロセスで除去した。その際にボックスベーンケン計画法を利用し,摩耗プロセスの主要な操作パラメータを最適化した。界面活性剤のココアミドプロピルベタイン濃度はPCPやPCDDFの除去に影響する主要なプロセスパラメータであった。除去に最適の摩耗プロセス条件は界面活性剤濃度が2%,地温が25°C,パルプ密度が40%であった。これら最適条件のヒ素/クロム/銅/ペンタクロロフェノール/PCDDF除去率は56/55/50/67/62%であった。界面活性剤が存在する条件の摩耗プロセスは粗大な汚染土壌の修復活動に有効と実証した。
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
環境衛生,公害対策一般  ,  その他の汚染原因物質 

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