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J-GLOBAL ID：201702210143037948   整理番号：17A0475113

化学処理された鉄鉱石スライム取込まれた混合マトリックス中空糸膜を用いた地下水からのヒ素の吸着除去【Powered by NICT】

Adsorptive removal of arsenic from groundwater using chemically treated iron ore slime incorporated mixed matrix hollow fiber membrane

著者 (2件)： Chatterjee Somak (Department of Chemical Engineering, Indian Institute of Technology, Kharagpur, Kharagpur 721302, India) ,  De Sirshendu (Department of Chemical Engineering, Indian Institute of Technology, Kharagpur, Kharagpur 721302, India)
資料名： Separation and Purification Technology  (Separation and Purification Technology)
巻： 179  ページ： 357-368  発行年： 2017年 
JST資料番号： T0428B  ISSN： 1383-5866  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 鉄鉱石スライムはヒ素汚染水の処理のためのポリスルホン中空繊維で処理し,含浸した。処理したスライムのヒ素除去容量の改善は,その表面上の金属水酸化物/オキシ水酸化物の析出に起因して観察された。膜マトリックス内の鉄鉱石スライムの取り込みをX線回折により確認した。走査電子顕微鏡写真は,添加物によるポリスルホン膜内の細孔の閉塞を確認し,多孔性,透過性および分子量カットオフの減少をもたらした。しかし,調製した膜の改善された親水性,より高い表面粗さとヒ素取込容量が観察された。混合マトリックス膜によるヒ素除去の機構は静電引力媒介吸着により支配された。最高の添加率(10wt%)の膜は,11.5L/m~2時間で現実の供給溶液に対して14時間ひ素を含まない水を生産し,動的モードで操作した。使い終えた膜は合成溶液を用いて三サイクルで再生された。ひ素除去の破過時間は第二および第三サイクル後28時間から22時間と14時間にそれぞれ減少した。除去プロセス上の最大干渉効果は,溶存硫酸塩イオンを示した。膜をWHO承認された許容レベル以下の実生活供給溶液からの微生物と鉄を同時に除去することができた。Copyright 2017 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【Powered by NICT】

シソーラス用語： *地下水 ,  ポリスルホン ,  *鉄鉱石 ,  *鉄 ,  分子量 ,  X線回折 ,  *ヒ素 ,  硫酸イオン ,  細孔 ,  *スライム ,  走査電子顕微鏡 ,  多孔性 ,  親水性
準シソーラス用語： ヒ素除去 ,  *中空糸膜 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (5件)： 混合マトリックス膜 ,  ポリスルホン ,  鉄鉱石スライム ,  ひ素 ,  吸着

分類 (2件)： 用水の化学的処理  (SC02040E) ,  用水の物理的処理  (SC02030T)

タイトルに関連する用語 (9件)： 化学処理 ,  鉄鉱石 ,  スライム ,  取込 ,  マトリックス ,  中空糸膜 ,  地下水 ,  ヒ素 ,  吸着除去