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J-GLOBAL ID:201702210322444696   整理番号:17A1138965

4H-SiC/SiO2界面におけるウェット酸化反応過程に関する理論的検討

著者 (7件):
資料名:
巻: 78th  ページ: ROMBUNNO.5p-PB8-3  発行年: 2017年08月25日 
JST資料番号: Y0055B  ISSN: 2758-4704  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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分類 (3件):
分類
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その他の無触媒反応  ,  固-固界面  ,  酸化,還元 

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